Химик-механик полировка (CMP) еш кына химик реакция ярдәмендә шома өслекләр җитештерүдә катнаша, аеруча ярымүткәргеч җитештерү тармагында.Лоннметр, концентрацияне үлчәү буенча 20 елдан артык тәҗрибәсе булган ышанычлы инновационал, заманча тәкъдим итәатом булмаган тыгызлык счетчикларыһәм ябышлык сенсорлары белән идарә итү проблемаларын чишү өчен.
Сыйфатның һәм Лоннметр экспертизасының мөһимлеге
Химик механик полировка плитасы - CMP процессының таянычы, өслекләрнең бердәмлеген һәм сыйфатын билгели. Бер-берсенә туры килми торган тыгызлык яки ябышлык микро-тырмалар, тигез булмаган материалны чыгару, яисә такта ябу кебек җитешсезлекләргә китерергә мөмкин, вафер сыйфатын боза һәм җитештерү чыгымнарын арттыра. Лоннметр, промышленность үлчәү чишелешләре буенча глобаль лидер, оптималь эшләнүне тәэмин итү өчен, сызыкны үлчәүдә махсуслаша. Ышанычлы, югары төгәл сенсорлар китерүнең исбатланган рекорды белән, Lonnmeter әйдәп баручы ярымүткәргеч җитештерүчеләр белән процесс контроле һәм эффективлыгын арттыру өчен хезмәттәшлек итә. Аларның атом булмаган эре тыгызлык счетчиклары һәм ябышлык сенсорлары реаль вакыттагы мәгълүмат белән тәэмин итәләр, төгәл көйләнмәләрне тотрыклы эзлеклелекне сакларга һәм заманча ярымүткәргеч җитештерүнең катгый таләпләрен канәгатьләндерергә мөмкинлек бирә.
Ике дистә елдан артык тәҗрибә, югары ярымүткәргеч фирмалар ышанычлы. Лоннметр сенсорлары бердәм интеграция һәм нульгә хезмәт күрсәтү өчен эшләнгән, оператив чыгымнарны киметә.
Ярымүткәргеч җитештерүдә химик механик полировкаларның роле
Химик механик полировка (CMP), шулай ук химик-механик планаризация дип атала, ярымүткәргеч җитештерүнең нигез ташы булып, алдынгы чип җитештерү өчен яссы, кимчелексез өслекләр булдырырга мөмкинлек бирә. Химик эфирны механик абразия белән берләштереп, CMP процессы 10нм астындагы төеннәрдә күп катлы интеграль схемалар өчен кирәкле төгәллекне тәэмин итә. Су, химик реагентлар һәм абразив кисәкчәләрдән торган химик механик полировка плитасы, материалны бертөрле чыгару өчен, полировка тактасы һәм вафер белән үзара бәйләнештә тора. Ярымүткәргеч конструкцияләре үсә барган саен, CMP процессы арта барган катлаулылык белән очраша, җитешсезлекләрне булдырмас өчен һәм ярымүткәргеч фабрикалары һәм материаллар белән тәэмин итүчеләр таләп иткән шома, бизәлгән ваферларга ирешү өчен каты контроль таләп итә.
Бу процесс минималь җитешсезлекләр булган 5нм һәм 3нм чиплар җитештерү өчен бик кирәк, бу киләсе катламнарны төгәл урнаштыру өчен яссы өслекләрне тәэмин итә. Хәтта вак-төяк туры килмәүләр дә кыйммәт эшкә яки уңышны югалтуга китерергә мөмкин.
Слайд үзлекләрен мониторинглаудагы проблемалар
Химик механик бизәү процессында эзлекле тыгызлыкны һәм ябышлыкны саклау проблемалар белән тулы. Транспорт, су белән эретү яки водород пероксиды, катнашмау яки химик деградация кебек факторлар аркасында төрле булырга мөмкин. Мәсәлән, кисәкчәләр тоташкан кисәкчәләр төбендә югары тыгызлыкка китерергә мөмкин, бертөрле булмаган полировкага китерә. PH, оксидлаштыру-киметү потенциалы (ORP) яки үткәрүчәнлек кебек традицион мониторинг ысуллары еш кына җитәрлек түгел, чөнки алар пычрак составындагы нечкә үзгәрешләрне ачыклый алмыйлар. Бу чикләүләр ярымүткәргеч җиһаз җитештерүчеләре һәм CMP хезмәт күрсәтүчеләре өчен зур куркыныч тудырып, җитешсезлекләргә, чыгару ставкаларының кимүенә һәм куллану чыгымнарының артуына китерергә мөмкин. Эшләү һәм тарату вакытында композицион үзгәрешләр эшкә тәэсир итә. Суб-10нм төеннәр чисталыкка һәм кушылу төгәллегенә катгый контроль таләп итәләр. pH һәм ORP минималь үзгәрүне күрсәтәләр, ә үткәрүчәнлек карлыгач белән үзгәрә. Бер-берсенә туры килми торган сазлык үзенчәлекләре җитешсезлек ставкаларын 20% ка арттырырга мөмкин.
Реаль вакыт мониторингы өчен Лоннметрның сенсорлары
Лоннметр бу проблемаларны үзенең алдынгы атом булмаган эре тыгызлык счетчиклары белән чишәябышлык сенсорларышул исәптән, ябышлыкны үлчәү өчен ябышлык үлчәме һәм бер үк вакытта тыгызлык тыгызлыгы һәм ябышлык мониторингы өчен УЗИ тыгызлыгы. Бу сенсорлар CMP процессларына бертуктаусыз интеграция өчен эшләнгән, сәнәгать-стандарт бәйләнешләр. Lonnmeter чишелешләре озак вакытлы ышанычлылык һәм аның нык төзелеше өчен түбән хезмәт күрсәтү тәкъдим итә. Реаль вакыттагы мәгълүматлар операторларга эретелгән кушылмаларны яхшы көйләргә, җитешсезлекләрне булдырмаска һәм бизәү эшләрен оптимальләштерергә мөмкинлек бирә, бу коралларны анализлау һәм сынау җиһазлары белән тәэмин итүчеләр һәм CMP кулланучылар тәэмин итүчеләре өчен алыштыргысыз итә.
CMP оптимизациясе өчен өзлексез мониторингның өстенлекләре
Лоннметрның сенсорлары белән өзлексез мониторинг химик механик бизәү процессын үзгәртә, эшлекле күзаллаулар һәм зур чыгымнарны экономияләү. Реаль вакыттагы эре тыгызлыкны үлчәү һәм ябышлыкны мониторинглау, сәнәгать күрсәткечләре буенча, сызу яки артык полировка кебек кимчелекләрне 20% ка киметә. PLC системасы белән интеграция автоматлаштырылган дозалау һәм процесс белән идарә итү мөмкинлеген бирә, пычрак характеристикалар оптималь диапазонда кала. Бу кулланыла торган чыгымнарның 15-25% кимүенә, эш вакытының минимумына һәм ваферның бердәмлеген яхшыртуга китерә. Ярымүткәргеч фабрикалары һәм CMP хезмәт күрсәтүчеләр өчен бу өстенлекләр продуктлылыкны арттыруга, югары керем чикләренә һәм ISO 6976 кебек стандартларга туры килүгә тәрҗемә ителә.
CMP-та пычрак мониторинг турында гомуми сораулар
Ни өчен CMP өчен тыгызлыкны үлчәү мөһим?
Сыер тыгызлыгын үлчәү кисәкчәләрнең бердәм таралышын һәм кушылу эзлеклелеген тәэмин итә, кимчелекләрне булдырмый һәм химик механик полировка процессында чыгару темпларын оптимальләштерә. Ул югары сыйфатлы вафер җитештерүне һәм тармак стандартларына туры килүне хуплый.
Ябышлык мониторингы CMP эффективлыгын ничек арттыра?
Ябалаклык мониторингы эзлекле шома агымны саклый, такта тыгылу яки тигез булмаган полировка кебек проблемаларны булдырмый. Лоннметрның сенсорлары CMP процессын оптимальләштерү һәм вафин уңышын яхшырту өчен реаль вакыттагы мәгълүмат бирә.
Лоннметрның атом булмаган эре тыгызлык метрларын нәрсә уникаль итә?
Лоннметрның атом булмаган эре тыгызлык счетчиклары бер үк вакытта тыгызлыкны һәм ябышлыкны үлчәүне югары төгәллек һәм нуль белән тәэмин итү тәкъдим итә. Аларның нык дизайны CMP процесс мохитендә ышанычлылыкны тәэмин итә.
Ярымүткәргеч җитештерүдә химик механик полировкалау процессын оптимальләштерү өчен реаль вакытта пычрак тыгызлыкны үлчәү һәм ябышлык мониторингы бик мөһим. Лоннметрның атом булмаган эремчек тыгызлыгы счетчиклары һәм ябышлык сенсорлары ярымүткәргеч җиһаз җитештерүчеләре, CMP куллану тәэмин итүчеләре, ярымүткәргеч фабрикалары белән идарә итү проблемаларын җиңү, кимчелекләрне киметү һәм чыгымнарны киметү өчен кораллар белән тәэмин итәләр. Төгәл, реаль вакыттагы мәгълүмат биреп, бу чишелешләр процесс эффективлыгын арттыралар, туры килүне тәэмин итәләр, һәм көндәшлеккә сәләтле CMP базарында рентабельлелекне арттыралар. КилЛоннметр сайтыяки Lonnmeter сезнең химик механик бизәү операцияләрен ничек үзгәртә алуын ачыклау өчен бүген аларның командасына мөрәҗәгать итегез.
Пост вакыты: Июль-22-2025
